詳細摘要： 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究

詳細摘要： 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 220 用于鐘表行業鍍制納米薄膜

詳細摘要： 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源在 PCB 鉆頭銑刀上的應用

詳細摘要： KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000用于玻璃基片清洗

詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 140 用于鍍制 TiN 薄膜

詳細摘要： 考夫曼平行型射頻離子源 RFICP220 輔助 DC/DC 混合電路生產

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFICP380 在磁控濺射玻璃鍍膜中的應用

詳細摘要： 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助 LED 封裝

詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 輔助鍍制 OSR 膜層

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFICP220 用于修正高精度 CGH 基底

詳細摘要： 伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 用于清洗繼電器

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助濺射沉積制備鋰硫電池正極片

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 輔助濺射鍍制 Al2O3 薄膜

詳細摘要： 考夫曼聚焦射頻離子源 RFCIP220輔助濺射制備 GdF3光學薄膜

詳細摘要： KRI RFICP325 離子源已成功應用在塑料光學鏡頭應用

詳細摘要： KRI 考夫曼聚焦射頻離子源 RFICP380 輔助制備原子探針樣品

詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFCIP380 濺射鍍制 TC4 表面 TiN 涂層

詳細摘要： KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射制備 MnGe 量子點

詳細摘要： 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜