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賽默飛輝光放電質(zhì)譜儀ELEMENT GD Plus具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質(zhì)譜干擾的同位素
賽默飛輝光放電質(zhì)譜儀ELEMENT GD Plus結(jié)合了輝光放電離子源和雙聚焦高分辨率質(zhì)量分析器，可以定性定量分析固體樣品中包括C、N、O在內(nèi)的幾乎所有元素，是直接、快速分析高純樣品雜志含量和鍍層材料元素組成的工具。
賽默飛輝光放電質(zhì)譜儀ELEMENT GD Plus集中了輝光放電和高分辨質(zhì)譜的優(yōu)勢(shì)，在以下方面有杰出表現(xiàn)：
· 樣品測(cè)試通量高：ELEMENT GD離子源和樣品夾的設(shè)計(jì)使可縮短換樣和分析時(shí)間，顯著提高生產(chǎn)率；
· 檢測(cè)器線性范圍寬：檢測(cè)器線性范圍達(dá)12個(gè)數(shù)量級(jí)，可一次掃描同時(shí)檢測(cè)基體和痕量元素組成；
· 具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質(zhì)譜干擾的同位素。
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