CM2000環(huán)保低能耗納米膠體磨

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以混懸液制備為例：

制備混懸液時，應使混懸微粒有適當?shù)姆稚⒍龋６染鶆颍詼p小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)都是采用普通膠體磨，轉速只有3000rpm，生產(chǎn)出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫(yī)藥廠家在考察了國nei的設備之后，放棄了具有ji度價格優(yōu)勢的國nei設備，來詢問低能耗、高轉速、經(jīng)密定轉子、研磨細的上海IKN高速膠體磨。該設備轉速達到14000RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速來實現(xiàn)。(轉速是普通分散設備3-4倍，研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小，效果更好)。

上海IKN技術，du特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

膠體磨的基本原理：
　　膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸 入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎，精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之 后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。

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膠體磨內(nèi)部結構及分析：
　　粉碎室設有三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調(diào)整定、轉子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。

混合區(qū)：首先將物料通過混合攪拌裝置進行高速混合，在混合過程中用螺旋混合漿葉使物料在高速運轉中的到充分混合均質(zhì)后送料給下道工藝；

剪切區(qū)：物料進入剪切區(qū)后，由于上道工序只把物料進行混合，沒有把物料進行大顆粒破碎，這個問題由高剪切機來完成，該剪切區(qū)由三層數(shù)百條刀槽組成，將大的粘團結塊等易碎顆粒進行剪切破碎。

研磨區(qū)：研磨區(qū)是由凹凸膠體磨組成，轉定子切有許多中齒及細齒組成，將已剪切的小顆粒進行深化研磨，研磨時可調(diào)距離為0.01~3mm；

1、     有較強的混合、粉碎、研磨、輸送功能；

2、     可使用較硬的各類易碎顆粒；

3、     可同過調(diào)節(jié)定轉子間隙進而調(diào)節(jié)循環(huán)研磨所需時間；

4、     定、轉子間歇可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)距離為0.01~3mm，可降低啟動負荷，從而減少能耗

5、     轉、定子材料可選用2cr13 9cr18  2205進行氮化處理貨滲碳化鎢處理。

IKN膠體磨選型表：

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和***終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數(shù)，以便選型和定制。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實物為準。

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