CMD2000石墨烯研磨分散機(jī)

石墨烯研磨分散機(jī)，碳納米管分散機(jī)，電子漿料分散機(jī)，石墨烯制備是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒與相配的定齒作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

石墨烯研磨分散機(jī)，碳納米管分散機(jī)，電子漿料分散機(jī)，石墨烯制備

石墨烯是一種單原子層石墨晶體薄膜，碳原子構(gòu)成的二維蜂窩狀物質(zhì)。石墨烯是至今發(fā)現(xiàn)的zui?。ㄖ挥幸粋€(gè)原子層）、強(qiáng)度zui高的新型材料。具有許多*的性能：沒有能隙，是一種良好的半導(dǎo)體；良好的導(dǎo)熱性，可達(dá)到3000w/(m.k)；相比于石墨，熱穩(wěn)定性更加優(yōu)異；較大的比表面積，可達(dá)到2630m2/g；優(yōu)秀導(dǎo)電性，電子的運(yùn)動(dòng)速度達(dá)到了光速的1/300，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了電子在一般導(dǎo)體中的運(yùn)動(dòng)速度。

石墨烯的應(yīng)用

1.透明電極--染料太陽能電池的正極

2.電化學(xué)生物傳感器--石墨烯為電子傳輸提供了二維環(huán)境和在邊緣部分快速多相電子轉(zhuǎn)移

3.超級(jí)電容器--具有功率密度大，容量大，使用壽命大，經(jīng)濟(jì)環(huán)保等特點(diǎn)。

4.能量存儲(chǔ)和復(fù)合材料，新型電池的電子漿料。

石墨烯的制備

石墨烯的加工方法主要有：微機(jī)械剝離法，化學(xué)氣相沉積法，氧化-還原法，溶劑剝離法，加熱Si-C法，溶劑熱法等。

上海依肯研磨分散機(jī)CMD2000系列在石墨烯行業(yè)的應(yīng)用（石墨烯研磨分散機(jī)，碳納米管分散機(jī)，電子漿料分散機(jī)，石墨烯制備）：

由于單層石墨烯厚度只有0.335nm，普通石墨要制備石墨烯不能直接進(jìn)行剝離，必須經(jīng)過研磨分散成細(xì)小顆粒。上海依肯研磨分散機(jī)CMD2000是我們研發(fā)部門多名技術(shù)工程師經(jīng)過兩年時(shí)間研發(fā)出來的一款高科技產(chǎn)品，特別適合石墨烯的研磨分散，在保證碳鏈不被撕裂下，能夠?qū)⑹w粒研磨至納米級(jí)。研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)（，碳納米管分散機(jī)，電子漿料分散機(jī)，石墨烯制備）：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

CMD2000研磨分散機(jī)的參數(shù)：

型號(hào)	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測(cè)定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).

研磨分散機(jī)和均質(zhì)機(jī)的作用對(duì)比：

研磨分散機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。