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美國Laurell濕法腐蝕機 詳細摘要： 一、濕法腐蝕機用途和特點：1、用途：主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上顯影，濕法腐蝕，清洗，沖洗，甩干與光刻、烘烤等設備配合...
產品型號：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：香港特別行政區 更新時間：2022-10-21 參考價： 面議 在線留言 -
濕法刻蝕機臺 詳細摘要： 1、用途：主要用微細加工、半導體、微電子、光電子和納米技術工藝中在硅片、陶瓷片上顯影，濕法腐蝕，清洗，沖洗，甩干與光刻、烘烤等設備配合使用。設備能滿足各類以下尺...
產品型號：EDC-650Hz-15NPPB 所在地：香港特別行政區 更新時間：2022-10-21 參考價： 面議 在線留言 -
勻膠顯影機 詳細摘要： 650型勻膠顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。一般勻膠顯影機由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 （水）輥、...
產品型號：EDC-650MZ-23NPP 所在地：香港特別行政區 更新時間：2022-10-21 參考價： 面議 在線留言